中文大學校刊 一九九七年秋‧冬

研究計劃簡介 其他硅化物 他們進而研究其他以金屬蒸汽眞空弧注 入法製造的硅化物，包括二硅化鈦和二硅化 鐵。二硅化鈦與二硅化鈷相似，可應用於金 屬化過程。二硅化鐵中的 β 相二硅化鐵是半 圖三：以金屬蒸汽眞空弧注入法形成的二硅化鈷埋層的 樣品剖面透射電鏡照片 導體，其帶隙爲0.85電子伏，在硅基集成光 電器件的應用方面大有可爲 8 。研究人員又以 金屬蒸汽眞空弧注入法把鐵注入硅，樣本具 有出乎意料的正磁阻效應 9 。 兩位敎授表示，他們的研究結果顯示金 屬蒸汽眞空弧注入法是有前途的技術，値得 深入探究，而金屬硅化物於未來的微電子科 技上的應用將更重要，在新型器件應用方面 有高潛質，也可能是硅納米電子學發展的新 方向 1 0 。• 研究小組其他成員 •黃教授的博士研究生彭啓才先生和郭 文勝先生 •香港中交大學電子工程學系許建斌教 授和張榮耀博士 •香港中交大學物理系郝少康教授 •香港科技大學物理系王寧博士和；馬國 光博士 •美國聖地牙哥加州大學Dr. R. Morton 和劉兆偉教授 參 考 書 目 1. Murarka , S.P., Silicides fo r VLSI Applications, N e w York： A c a d e m i c Press, 1983； Metallization：Theory a n d Practice for VLSI a n d ULSI, Boston： Butterworth-Heinemann, 1993. 2. B r o w n, I.G., Galvin, J.E. & MacGill, R.A., Appl. Phys. Lett., 1985, 47, p. 358； B r o w n , I.G., Galvin, J.E., Gavin, B.F. & MacGill, R.A., Rev. Sci. Instrum., 1986, 57, p. 1069. 3. Peng, Q., W o n g , S.P., Wilson, I.H., W a n g , N . & Fung, K.K., Thin Solid Films, 1995, 2 7 0 , p.573 . 4. Peng, Q . & W o n g , S.P., M R S S y m p. Proc., 1996, 4 0 2 , p . 4 8 7. 5. Peng, Q., W o n g , S.P., X u, J.B. & Wilson, I.H., M R S S y m p. Proc., 1996, 396, p.763. 6. W o n g , S.P., Peng, Q., C h e u n g, W.Y., G u o , W.S., X u , J.B., Wilson, I.H., Hark, S.K., Morton, R. & Lau, S.S., M R S S y m p. Proc., 1997, 4 3 8, p . 3 0 7. 7. Peng, Q., Ph.D. Thesis, 1997, T h e Chinese University of H o n g K o n g. 8. Derrien, J., Berbezier, I., R o n d a, A. & Natoli, J.Y., Appl. Surf. Sci, 1996, 92, p.311. 9. W o n g , S.P. & C h e u n g, W.Y., M R S 1997 Spring Meeting, p a p er Ml.11, 31st M a r c h - 4 t h April 1997, S an Francisco, USA；W o n g , S.P. & C h e u n g, W.Y., M R S S y m p. Proc., 1997, 475. 10. Tucker, J.R., W a n g , C. & Shen, T.C., Nanotechnology, 1996, 7, p.275. 新法研製金屬硅化物 29